化学气相沉积技术及在难熔金属材料中的应用
来源期刊：稀有金属材料与工程2010年第S1期
论文作者：黎宪宽 陈力 蔡宏中 魏巧灵 胡昌义
文章页码：438 - 443
关键词：化学气相沉积;难熔金属;应用发展;挑战和机遇;
摘 要：简述了化学气相沉积技术(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)的发展历程及其应用领域;重点阐述CVD技术在难熔金属(W、Re、Ta、Mo、Nb)相关领域的应用概况并展望了其研究前景,特别指出CVD技术在制备难熔金属合金研究上存在的挑战和机遇。
黎宪宽1,2，陈力1,2,3，蔡宏中1,2，魏巧灵1,2，胡昌义1,2,3
1. 昆明贵金属研究所2. 云南省贵金属材料重点实验室3. 昆明理工大学
摘 要：简述了化学气相沉积技术(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)的发展历程及其应用领域;重点阐述CVD技术在难熔金属(W、Re、Ta、Mo、Nb)相关领域的应用概况并展望了其研究前景,特别指出CVD技术在制备难熔金属合金研究上存在的挑战和机遇。
关键词：化学气相沉积;难熔金属;应用发展;挑战和机遇;
