贵金属化学气相沉积的研究进展
来源期刊:贵金属2005年第2期
论文作者:欧阳远良 陈松 胡昌义 王云 戴姣燕
关键词:金属材料; 贵金属薄膜和涂层; 化学气相沉积; 前驱体; 应用;
摘 要:简要介绍了贵金属薄膜和涂层材料化学气相沉积(CVD)技术的研究进展,包括贵金属的CVD制备方法、沉积贵金属的各种前驱体化合物以及CVD制备的贵金属薄膜和涂层的应用状况等.
欧阳远良1,陈松1,胡昌义1,王云1,戴姣燕1
(1.昆明贵金属研究所,云南,昆明,650221)
摘要:简要介绍了贵金属薄膜和涂层材料化学气相沉积(CVD)技术的研究进展,包括贵金属的CVD制备方法、沉积贵金属的各种前驱体化合物以及CVD制备的贵金属薄膜和涂层的应用状况等.
关键词:金属材料; 贵金属薄膜和涂层; 化学气相沉积; 前驱体; 应用;
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