化学气相沉积钨制品的研究现状与发展趋势

来源期刊：中国钨业2015年第2期

论文作者：吕延伟 颜彬游 宋久鹏 于洋

文章页码：53 - 59

关键词：钨;化学气相沉积;涂层;难熔金属;

摘    要：化学气相沉积（Chemial vapor deposition,CVD）是制备高纯高致密钨零件及涂层的重要工艺。通过介绍采用CVD方法制备的纯钨材料的工艺与技术特点,并从CVD-W材料特性、产品种类,相关应用方向等方面阐述了CVD技术在钨材料制造中的发展情况,介绍了CVD-W在国防军工、核能、医疗等行业领域的应用,总结了CVD-W制备技术和材料的国内外现状,并指出了未来国内CVD技术在钨及难熔金属应用领域发展的总体方向。