溅射电流和时间对钼薄膜电学性能的影响
来源期刊：中国钼业2012年第1期
论文作者：范海波 孙院军 赵宝华 安耿 刘仁智
文章页码：15 - 17
关键词：钼薄膜;导电性;磁控溅射;溅射工艺;
摘 要：钼薄膜作为电极和布线材料在太阳能电池和薄膜晶体管的制造中具有重要应用价值。磁控溅射作为一种制备钼薄膜的主要手段,其溅射工艺对钼薄膜的性能有着重要的影响。本文通过改变溅射电流和时间制备了具有不同形貌的钼薄膜,并对其电学性能进行了比较,从而得到了较为适合的钼薄膜溅射工艺。
范海波1,2，孙院军2，赵宝华2，安耿2，刘仁智2
1. 西北大学物理系2. 金堆城钼业股份有限公司技术中心
摘 要：钼薄膜作为电极和布线材料在太阳能电池和薄膜晶体管的制造中具有重要应用价值。磁控溅射作为一种制备钼薄膜的主要手段,其溅射工艺对钼薄膜的性能有着重要的影响。本文通过改变溅射电流和时间制备了具有不同形貌的钼薄膜,并对其电学性能进行了比较,从而得到了较为适合的钼薄膜溅射工艺。
关键词：钼薄膜;导电性;磁控溅射;溅射工艺;
