磁控溅射工艺参数对涤纶机织物基纳米金属薄膜抗静电性能的影响

来源期刊：材料科学与工程学报2014年第6期

论文作者：袁小红 魏取福 陈东生 徐文正

文章页码：848 - 852

关键词：磁控溅射;涤纶机织物;纳米金属薄膜;抗静电性能;

摘    要：在室温条件下采用磁控溅射技术在涤纶机织物表面沉积金属薄膜,利用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察纳米金属薄膜的表面形貌,通过分别改变磁控溅射工艺参数溅射时间、溅射功率和气体压强,研究其对试样抗静电性能的影响。实验结果表明,溅射时间和溅射功率对镀金属薄膜试样的抗静电性能均影响较大,而气体压强影响相对较小。溅射时间40min、溅射功率120W、气体压强1.6Pa工艺条件下,镀Cu膜试样的抗静电性能最好;溅射时间40min、溅射功率120W、气体压强1Pa或1.6Pa工艺条件下,镀Ag膜试样的抗静电性能最好,而且镀Ag比镀Cu薄膜试样的抗静电性能更优异。