磁控溅射工艺参数对ZAO薄膜性能的影响

来源期刊：材料保护2014年第S1期

论文作者：刘沅东 张宁 汤清琼 余新平 张至树

文章页码：137 - 139

关键词：磁控溅射;ZAO薄膜;工艺参数;电阻率;透过率;结晶性能;

摘    要：通过磁控溅射氧化铝锌陶瓷靶材的方法在玻璃基片上制备ZAO薄膜,研究了溅射电流、溅射气压、基片温度对ZAO膜电学及光学性能的影响,使用X射线衍射仪分析了薄膜相结构,使用台阶仪测试薄膜厚度,使用四探针方阻仪测试薄膜电阻率,采用紫外可见分光光度计测试薄膜透过率。结果表明:溅射电流增加可以改善ZAO薄膜的透过率与电阻率;溅射气压对薄膜的结晶性和透过率影响不大,但电阻率会随溅射气压的增大而上升;基体温度升高可以提高AZO薄膜的透过率与电导率。