磁控溅射工艺对Mo膜性能的影响

来源期刊：材料保护2014年第S1期

论文作者：汤清琼 刘沅东 张宁 余新平 张至树

文章页码：134 - 136

关键词：磁控溅射;Mo膜;应力;电阻率;

摘    要：采用中频磁控溅射方法制备用于CIGS薄膜太阳能电池背电极的Mo膜。研究了靶面磁场强度、溅射气压、溅射电流等工艺参数对Mo膜沉积速率、电阻率、形貌及应力的影响。研究表明:随着靶面磁场强度的增强,Mo膜电阻率和沉积速率均下降;使用较高的溅射电流可以获得较高的沉积速率和较低的电阻率,使用较低的溅射气压可以获得较低的电阻率和较高的沉积速率。在本试验条件下制备的Mo膜基本上呈现拉应力状态并且随溅射气压的升高而增大。