金属钨箔膜的制备研究进展
来源期刊：稀有金属材料与工程2009年增刊第1期
论文作者：林华平 李朝阳 易泰民 谢军 谌家军 邢丕峰 宋萍
关键词：钨箔膜; 制备技术; 表面粗糙度; 电解抛光;
摘 要：具有体密度的高表面质量金属钨薄膜对材料高压状态方程研究具有十分重要的意义.综述了钨箔膜制备的几种方法,包括化学气相沉积、物理气相沉积、机械轧制、机械研磨抛光、化学抛光和电解抛光.综合比较后认为,采用电解抛光法可以基本满足状态方程靶用钨箔膜的需要.电解抛光可以制备表面质量比较高,厚度最小可达几微米的金属箔材,密度与原料相同,而且不会产生内应力、表面硬化、表面沾污问题,是制备低表面粗糙度、具有块材组织结构和密度材料的一种重要手段.
林华平1，李朝阳1，易泰民1，谢军1，谌家军2，邢丕峰1，宋萍1
(1.中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900;
2.西华师范大学,四川,南充,637002)
摘要:具有体密度的高表面质量金属钨薄膜对材料高压状态方程研究具有十分重要的意义.综述了钨箔膜制备的几种方法,包括化学气相沉积、物理气相沉积、机械轧制、机械研磨抛光、化学抛光和电解抛光.综合比较后认为,采用电解抛光法可以基本满足状态方程靶用钨箔膜的需要.电解抛光可以制备表面质量比较高,厚度最小可达几微米的金属箔材,密度与原料相同,而且不会产生内应力、表面硬化、表面沾污问题,是制备低表面粗糙度、具有块材组织结构和密度材料的一种重要手段.
关键词:钨箔膜; 制备技术; 表面粗糙度; 电解抛光;
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