辉光放电质谱法在高纯材料分析中的应用

王爽¹，白杉^1,2，徐平¹，王树英¹，郭雅尘¹，左文家¹，张腾月¹，周渊名¹，梁雪松¹，洪梅²

1. 锦州市产品质量监督检验所国家光伏材料质量监督检验中心2. 北京大学化学生物学与生物技术学院

摘 要：高纯材料是现代高新技术发展的基础,在电子、光学和光电子等尖端科学领域发挥着重要作用。采用固体样品直接分析的辉光放电质谱法(GDMS),在高纯金属、高纯半导体材料的痕量和超痕量杂质分析中有着非常广泛的应用。综述了GDMS法对高纯金属、高纯半导体材料进行的元素分析,并对分析过程中工作参数、溅射时间、干扰峰等因素的影响进行了阐述。同时,也详述了应用GDMS法对高纯金属钛、镉,高纯半导体硅,分别进行的痕量杂质元素分析,结果显示放电稳定性良好,典型元素含量的相对标准偏差均在较为理想范围内。GDMS应用前景广泛,未来,GDMS将在除固体样品之外的其他样品类型的分析领域中发挥重要作用。

关键词：辉光放电质谱法;高纯金属;高纯半导体;应用;