辉光放电质谱法测定高纯钴中痕量杂质元素
来源期刊：云南冶金2015年第3期
论文作者：杨海岸 罗舜 刘英波 闫豫昕 施昱
文章页码：61 - 65
关键词：辉光放电质谱法;高纯钴;痕量元素;
摘 要：采用辉光放电质谱法（GD-MS）测定高纯钴中Na、K、Fe、Ni、Cu等14个痕量杂质元素。找出了合适的样品预处理方法,讨论了最佳仪器工作参数和样品预溅射时间的选择,探讨了如何选择合适的分析同位素及分辨率模式来减小同位素干扰的影响。分析了GD-MS测定痕量杂质元素的精密度,并将分析结果与高纯钴样品出厂标定值进行比对以验证GD-MS无标直接分析的准确程度。结果表明,辉光放电质谱法是直接分析高纯钴材料的有效分析方法。
杨海岸1,2，罗舜1,2，刘英波1,2，闫豫昕1,2，施昱1,2
1. 昆明冶金研究院
摘 要：采用辉光放电质谱法（GD-MS）测定高纯钴中Na、K、Fe、Ni、Cu等14个痕量杂质元素。找出了合适的样品预处理方法,讨论了最佳仪器工作参数和样品预溅射时间的选择,探讨了如何选择合适的分析同位素及分辨率模式来减小同位素干扰的影响。分析了GD-MS测定痕量杂质元素的精密度,并将分析结果与高纯钴样品出厂标定值进行比对以验证GD-MS无标直接分析的准确程度。结果表明,辉光放电质谱法是直接分析高纯钴材料的有效分析方法。
关键词：辉光放电质谱法;高纯钴;痕量元素;
