简介概要

微流控芯片透光性基底SU8曝光工艺

来源期刊：功能材料与器件学报2008年第2期

论文作者：郭育华朱学林刘刚田扬超褚家如

关键词：微流控芯片; 透光性基底; SU8光刻;

摘要：研究了在透光性基底上直接光刻SU8光刻胶制作可实现光集成微流控芯片的工艺,讨论了基底厚度、透光性和样品承载台表面反射性等因素对透光性基底上SU8光刻图形质量的影响.研究结果表明,通过减少样品承载台表面对紫外光的反射,可有效的解决光刻胶内非定义曝光区域出现感光交联的问题.

详情信息展示

郭育华¹，朱学林²，刘刚¹，田扬超¹，褚家如²

(1.国家同步辐射实验室,安徽合肥,230026;
2.中国科学技术大学精密机械仪器系,安徽合肥,230026)

摘要:研究了在透光性基底上直接光刻SU8光刻胶制作可实现光集成微流控芯片的工艺,讨论了基底厚度、透光性和样品承载台表面反射性等因素对透光性基底上SU8光刻图形质量的影响.研究结果表明,通过减少样品承载台表面对紫外光的反射,可有效的解决光刻胶内非定义曝光区域出现感光交联的问题.

关键词:微流控芯片; 透光性基底; SU8光刻;

【全文内容正在添加中】