紫外曝光在ZrO2薄膜上引入微结构的研究
来源期刊：材料导报2005年第9期
论文作者：徐翔 侯今强 徐超 沈军 周斌 倪星元
关键词：Sol-gel法; ZrO2; 光敏凝胶; 光栅;
摘 要：以锆酸丁酯和苯甲酰丙酮为源,结合Sol-gel工艺,以溶液浸渍法制备具有负性光刻胶性质的ZrO2光敏凝胶.再通过掩膜紫外曝光经显影工艺获得光栅周期在2～10μm,深度120～200nm的ZrO2薄膜光栅.采用紫外分光光度计、红外分光光度计、AFM监控图形转移过程研究了图形精确转移的工艺并优化了工艺参数.
徐翔1，侯今强1，徐超1，沈军1，周斌1，倪星元1
(1.同济大学波尔固体物理研究所,上海,200092)
摘要:以锆酸丁酯和苯甲酰丙酮为源,结合Sol-gel工艺,以溶液浸渍法制备具有负性光刻胶性质的ZrO2光敏凝胶.再通过掩膜紫外曝光经显影工艺获得光栅周期在2～10μm,深度120～200nm的ZrO2薄膜光栅.采用紫外分光光度计、红外分光光度计、AFM监控图形转移过程研究了图形精确转移的工艺并优化了工艺参数.
关键词:Sol-gel法; ZrO2; 光敏凝胶; 光栅;
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