离子束增强沉积界面共混工艺对Cr-N镀层结合强度的影响
来源期刊：无机材料学报2000年第4期
论文作者：唐宾 胡奈赛 李咏梅
关键词：离子束增强沉积; CrN; 膜层--基体结合强度; IBED; Cr-N; coating/substrate bonding strength;
摘 要：采用连续压入法以及球滚接触疲劳法评定不同界面共混工艺所制Cr-N镀层膜基结合强度，并对两种方法试验结果进行分析对比.试验结果表明，在其它参数相同条件下，随着氮离子轰击能量从10、20keV提高到40keV，动反冲共混界面结合强度则有明显降低的趋势，Pc值测量值分别为650、700、330N.当轰击能量为20、10keV时，Cr-N镀层在Δτrz=442MPa时，循环疲劳周次达到5.0106时，镀层未剥落，表现出很高的动态结合强度,而40keV动反冲共混界面在Δτrz=442MPa时，循环疲劳周次仅为9.0105.较低能量(10、20keV)氮离子动态共混界面具有更理想的膜层--基体结合强度.两种方法测试结果具有一致性.当膜层--基体结合力较高时，压入法评定膜层--基体结合强度更简便、适用.
唐宾1，胡奈赛2，李咏梅1
(1.太原理工大学表面工程研究所, 太原 030024;
2.西安交通大学金属材料强度国家重点实验室, 西安 710049)
摘要:采用连续压入法以及球滚接触疲劳法评定不同界面共混工艺所制Cr-N镀层膜基结合强度，并对两种方法试验结果进行分析对比.试验结果表明，在其它参数相同条件下，随着氮离子轰击能量从10、20keV提高到40keV，动反冲共混界面结合强度则有明显降低的趋势，Pc值测量值分别为650、700、330N.当轰击能量为20、10keV时，Cr-N镀层在Δτrz=442MPa时，循环疲劳周次达到5.0106时，镀层未剥落，表现出很高的动态结合强度,而40keV动反冲共混界面在Δτrz=442MPa时，循环疲劳周次仅为9.0105.较低能量(10、20keV)氮离子动态共混界面具有更理想的膜层--基体结合强度.两种方法测试结果具有一致性.当膜层--基体结合力较高时，压入法评定膜层--基体结合强度更简便、适用.
关键词:离子束增强沉积; CrN; 膜层--基体结合强度; IBED; Cr-N; coating/substrate bonding strength;
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