银离子掺杂TiO2薄膜的物理性能研究

王向晖¹，刘恩庆¹，胡石琼¹，陈静²

(1.华东师范大学光谱学与波谱学教育部重点实验室,上海,200062;
2.中国科学院上海微系统及信息研究所,上海,200050)

摘要:不同剂量的银离子被注入到采用反应磁控溅射(RMS)制备出的TiO2薄膜中.实验发现,薄膜的成分以二氧化钛和单质银为主,薄膜中可以看到银的纳米晶颗粒.注入的银离子在薄膜中呈近高斯分布,分布峰随注入剂量的增加而向表层移动.银离子注入后原本致密平整的TiO2薄膜表面出现了沟壑和晶粒粗化现象,且均方根粗糙度随注入剂量的增加而增加.不同的注入剂量对薄膜的表面能没有明显的影响.

关键词:离子注入; 反应磁控溅射; 二氧化钛; 银; 显微结构;

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