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反应磁控溅射离子镀TiN膜的工艺参数

来源期刊：东北大学学报(自然科学版)1987年第3期

论文作者：杨树贵周卓

文章页码：376 - 380

关键词：反应磁控溅射;离子镀;氮化钛膜;

摘要：为改进反应磁控溅射离子镀氮化钛膜工艺,提高溅射速率和改善薄膜质量,本实俭测得了靶极电压与氮气流量;靶极电流与氮气流量;溅射室内气体压强与氮气流量;氮化钛膜的颜色与氮分压;靶极功率与氩气分压强的关系,以及薄膜层中氮含量、钛含量沿薄膜表面的分布。探讨了影响镀膜的主要工艺参数。

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杨树贵，周卓

东北工学院应用物理教研室

关键词：反应磁控溅射;离子镀;氮化钛膜;