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磁控溅射制备BiFeO3/Sr1-xLaxFe12-xCoxO19复合薄膜及其磁性能研究

来源期刊:稀有金属材料与工程2017年第2期

论文作者:顾正飞 李振昕 江民红 李林 杜玉松 喻思力 潘旷 赵光乾

文章页码:415 - 420

关键词:磁控溅射;复合薄膜;表面形貌;磁性能;

摘    要:室温下采用射频磁控溅射法,在P型<100>Si基衬底上分别制备了BiFeO3(BFO)和Sr1-xLaxFe12-xCoxO19(x=00.3)的单层及2-2型BiFeO3/Sr1-xLaxFe12-xCoxO19叠层式复合结构薄膜。采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和材料综合物性测试系统(PPMS)对薄膜样品的微观结构、表面形貌以及磁学性能进行了测试分析。结果表明,随着x的增加,Sr1-xLaxFe12-xCoxO19单层膜的矫顽力先少量减小后增加,剩磁比起初不变然后递增,而剩余磁化强度一直减小。当x=0.3时,其矫顽力和剩磁比均达到最大值,分别为491 kA/m和0.69,而剩余磁化强度达到最小值为50(A·m2)/kg;复合薄膜的矫顽力及剩磁比先增加后减小,剩余磁化强度一直减小,在x=0.2矫顽力和剩磁比均达到最大值,分别为425 kA/m和0.73,当x=0.3时矫顽力和剩磁比明显减弱,分别为171 kA/m和0.4,此时剩余磁化强度为最小值19(A·m2)/kg。

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磁控溅射制备BiFeO3/Sr1-xLaxFe12-xCoxO19复合薄膜及其磁性能研究

顾正飞,李振昕,江民红,李林,杜玉松,喻思力,潘旷,赵光乾

桂林电子科技大学

摘 要:室温下采用射频磁控溅射法,在P型<100>Si基衬底上分别制备了BiFeO3(BFO)和Sr1-xLaxFe12-xCoxO19(x=00.3)的单层及2-2型BiFeO3/Sr1-xLaxFe12-xCoxO19叠层式复合结构薄膜。采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和材料综合物性测试系统(PPMS)对薄膜样品的微观结构、表面形貌以及磁学性能进行了测试分析。结果表明,随着x的增加,Sr1-xLaxFe12-xCoxO19单层膜的矫顽力先少量减小后增加,剩磁比起初不变然后递增,而剩余磁化强度一直减小。当x=0.3时,其矫顽力和剩磁比均达到最大值,分别为491 kA/m和0.69,而剩余磁化强度达到最小值为50(A·m2)/kg;复合薄膜的矫顽力及剩磁比先增加后减小,剩余磁化强度一直减小,在x=0.2矫顽力和剩磁比均达到最大值,分别为425 kA/m和0.73,当x=0.3时矫顽力和剩磁比明显减弱,分别为171 kA/m和0.4,此时剩余磁化强度为最小值19(A·m2)/kg。

关键词:磁控溅射;复合薄膜;表面形貌;磁性能;

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