磁控溅射制备Cu2ZnSnS4薄膜的研究进展
来源期刊：材料导报2016年第21期
论文作者：沈韬 陈怡琦 朱艳 甘国友 易建宏
文章页码：14 - 20
关键词：磁控溅射;Cu2ZnSnS4;薄膜;
摘 要：Cu2ZnSnS4（CZTS）薄膜由于其合适的禁带宽度、高的光吸收系数以及组分无毒、储量丰富等特性,被视为薄膜太阳能电池最佳的吸收层材料之一。磁控溅射是制备CZTS薄膜的主要方法之一,因为其制备过程相对简单且可以产业化,一直是太阳能电池领域的研究热点。从磁控溅射制备CZTS薄膜的3种路径出发,综述了近年来各种路径在制备CZTS薄膜方面的研究进展,比较了3种路径的优缺点,同时对磁控溅射制备CZTS薄膜的发展前景进行了展望。
沈韬1,2，陈怡琦1,2，朱艳1,2，甘国友1,2，易建宏1,2
1. 昆明理工大学材料科学与工程学院2. 云南省新材料制备与加工重点实验室
摘 要：Cu2ZnSnS4（CZTS）薄膜由于其合适的禁带宽度、高的光吸收系数以及组分无毒、储量丰富等特性,被视为薄膜太阳能电池最佳的吸收层材料之一。磁控溅射是制备CZTS薄膜的主要方法之一,因为其制备过程相对简单且可以产业化,一直是太阳能电池领域的研究热点。从磁控溅射制备CZTS薄膜的3种路径出发,综述了近年来各种路径在制备CZTS薄膜方面的研究进展,比较了3种路径的优缺点,同时对磁控溅射制备CZTS薄膜的发展前景进行了展望。
关键词：磁控溅射;Cu2ZnSnS4;薄膜;
