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磁控溅射Wox-Ti(Mo,Ni,V)薄膜的电致变色性能

来源期刊：材料导报2007年第4期

论文作者：蔡明黄佳木徐爱娇

关键词：WOx; 薄膜; 电致变色; 掺杂; 磁控溅射;

摘要：采用反应磁控溅射工艺分别制备掺杂Ti、Mo、Ni、V的WOx薄膜,研究了掺杂对其电致变色性能的影响机理.实验结果表明,适量的掺杂可以提高薄膜的电致变色性能,Mo的掺杂可以调节光谱吸收范围,Ni、V的掺杂可以提高记忆存储能力,Ti的掺杂可以延长循环寿命;磁控溅射制备的掺杂WOx薄膜均为非晶态.

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蔡明¹，黄佳木¹，徐爱娇¹

(1.重庆大学材料科学与工程学院,重庆,400045)

摘要:采用反应磁控溅射工艺分别制备掺杂Ti、Mo、Ni、V的WOx薄膜,研究了掺杂对其电致变色性能的影响机理.实验结果表明,适量的掺杂可以提高薄膜的电致变色性能,Mo的掺杂可以调节光谱吸收范围,Ni、V的掺杂可以提高记忆存储能力,Ti的掺杂可以延长循环寿命;磁控溅射制备的掺杂WOx薄膜均为非晶态.

关键词:WOx; 薄膜; 电致变色; 掺杂; 磁控溅射;

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