直流磁控溅射工艺对SmCo薄膜的影响
来源期刊：中国稀土学报2003年增刊第1期
论文作者：祝要民 陈强 宋晓平 李晓园
关键词：直流磁空溅射; SmCo薄膜; 工艺; 稀土;
摘 要：采用不同的直流磁控溅射工艺, 制备了SmCo薄膜.分别用能谱(EDAX)和俄歇谱仪(ASE)对薄膜的平均成份和表面到内部成份分布进行了分析, 用振动样品磁强计(VSM)分析了薄膜的磁性能, 用原子力显微镜(ATM)分析了溅射薄膜的表面颗粒形貌.结果表明, 溅射工艺因素对薄膜的成份和磁性能有较大的影响.
祝要民1，陈强1，宋晓平1，李晓园1
(1.西安交通大学,陕西,西安,710049;
2.河南科技大学,河南,洛阳,471039)
摘要:采用不同的直流磁控溅射工艺, 制备了SmCo薄膜.分别用能谱(EDAX)和俄歇谱仪(ASE)对薄膜的平均成份和表面到内部成份分布进行了分析, 用振动样品磁强计(VSM)分析了薄膜的磁性能, 用原子力显微镜(ATM)分析了溅射薄膜的表面颗粒形貌.结果表明, 溅射工艺因素对薄膜的成份和磁性能有较大的影响.
关键词:直流磁空溅射; SmCo薄膜; 工艺; 稀土;
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