光敏甲基丙烯酸酯共聚物的合成及在负性光致抗蚀剂中的应用

来源期刊：高分子材料科学与工程2012年第11期

论文作者：舒航 刘敬成 王春林 刘仁 张胜文 刘晓亚

文章页码：22 - 26

关键词：甲基丙烯酸酯;UV固化;光敏共聚物;光致抗蚀剂;

摘    要：以甲基丙烯酸（MAA）、甲基丙烯酸甲酯（MMA）、甲基丙烯酸羟乙酯（HEMA）和甲基丙烯酸苄基酯（BZMA）为原料,通过自由基聚合制备了聚甲基丙烯酸酯系列共聚物PMMHB,再用甲基丙烯酸缩水甘油酯（GMA）与PMMHB反应制得光敏共聚物PMMHB-G。用傅立叶红外光谱（FT-IR）、核磁共振氢谱（1H-NMR）、凝胶渗透色谱（GPC）、热重分析（TGA）和差示扫描量热（DSC）表征了聚合物的结构与性能,用光学显微镜和扫描电子显微镜（SEM）观测了光致抗蚀剂的耐酸性、微观线路及分辨率。结果表明,随共聚物组成中BZMA含量增加,其分子量（-Mn）和玻璃化温度（Tg）呈下降趋势,热分解温度（Td）提高,光致抗蚀剂的耐酸性随BZMA含量的增加而有所提高。由PMMHB-G制得光致抗蚀剂的图像线路清晰笔直,分辨率可达到40μm。