GMA改性超支化聚合物的合成及在光致抗蚀剂中的应用

来源期刊：高分子材料科学与工程2013年第5期

论文作者：熊小梅 刘敬成 刘仁 贾秀丽 江金强 刘晓亚

文章页码：9 - 12

关键词：超支化;巯基链转移;光致抗蚀剂;

摘    要：通过巯基链转移支化聚合法,以4-乙烯基苄硫醇（VBT）为支化单体,丙烯酸正丁酯（BA）、苯乙烯（St）、丙烯酸（AA）为共聚单体,偶氮二异丁腈（AIBN）为引发剂,丙二醇甲醚醋酸酯（PMA）为溶剂,合成了HBPs。利用甲基丙烯酸缩水甘油酯（GMA）环氧基与HBP羧基的反应,向HBP中引入双键制备了具有碱溶性和光固化特性的G-HBP。采用FT-IR、1H-NMR、DSC、凝胶色谱（GPC）-激光光散射（LS）-示差黏度（DV）三检测仪表征了聚合物的结构及性能,验证了其超支化结构;将合成的G-HBP用作负性光致抗蚀剂的主体树脂,测试了光致抗蚀剂显影成像过程参数。结果表明,显影时间为40 s,去膜时间为30 s,感度级数为7级。抗蚀剂性能优异,分辨率可达到40μm。