甲基丙烯酸树脂的合成及在负性光致抗蚀剂中的应用

来源期刊：高分子材料科学与工程2014年第12期

论文作者：郑祥飞 刘敬成 刘仁 刘晓亚

文章页码：34 - 38

关键词：甲基丙烯酸;光敏共聚物;负性光致抗蚀剂;应用;

摘    要：以甲基丙烯酸（MAA）、甲基丙烯酸甲酯（MMA）、甲基丙烯酸羟乙酯（HEMA）和2-甲基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯（MAd MA）为单体,通过自由基聚合制备了不同MAd MA含量的共聚物PMMHM,再与甲基丙烯酸缩水甘油酯（GMA）反应制得光敏共聚物PMMHM-G。用傅里叶变换红外光谱、核磁共振氢谱、凝胶渗透色谱、差示扫描量热等表征了聚合物的结构与性能;以PMMHM-G为基体树脂配制了光致抗蚀剂,测试了抗蚀剂膜的硬度与附着力,并用扫描电子显微镜观测了光致抗蚀剂的分辨率。结果表明,随着MAd MA含量升高,共聚物的相对分子质量下降,玻璃化转变温度升高,树脂的耐碱性增强,光致抗蚀剂的硬度和附着力良好,分辨率达50μm。