退火温度对宽带脉冲压缩光栅载体金属/介质多层高反膜的影响

吴建波^1,2，晋云霞¹，关贺元^1,2，孔钒宇^1,2，刘文文^1,2，刘世杰¹，易葵¹

1. 中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室2. 中国科学院大学

摘 要：分别以金(Au)作为金属层材料,氧化铪(HfO2)与氧化硅(SiO2)作为高低折射率层材料,利用物理气相沉积方法制备了用于宽带脉冲压缩光栅制作的金属/介质多层高反膜,研究了退火温度对其表面均方根粗糙度、反射率及抗化学清洗破坏能力的影响。实验结果表明:退火前后样品表面均方根粗糙度变化很小;提高退火温度能提高金属/介质多层膜的抗化学清洗破坏能力,但反射率会随之下降。250℃退火10 h后金属/介质多层膜不仅可以承受住化学清洗过程,而且反射率下降也比较小,可以作为金属/介质多层膜的最佳退火工艺。

关键词：金属/介质多层膜;脉冲压缩光栅;退火;化学清洗;反射率;