Mo电极形貌对AIN薄膜择优取向生长的影响
来源期刊：功能材料与器件学报2010年第2期
论文作者：顾豪爽 熊娟 胡宽
关键词：磁控溅射; Mo电极; AIN薄膜; 择优取向; Sputtering; Mo electrode; AIN thin film; orientation;
摘 要：采用射频磁控溅射方法在不同形貌的Mo电极上制备了(002)择优取向的AIN薄膜.采用XRD、FESEM表征了Mo电极及AIN薄膜的结构、表面形貌及择优取向.结果表明,Mo电极的形貌影响AIN薄膜的择优取向生长,在较高溅射气压下沉积的Mo电极晶粒细小、分布均匀,有助于AIN薄膜(002)择优取向生长.
顾豪爽1，熊娟1，胡宽1
(1.湖北大学物理学与电子技术学院,武汉,430062)
摘要:采用射频磁控溅射方法在不同形貌的Mo电极上制备了(002)择优取向的AIN薄膜.采用XRD、FESEM表征了Mo电极及AIN薄膜的结构、表面形貌及择优取向.结果表明,Mo电极的形貌影响AIN薄膜的择优取向生长,在较高溅射气压下沉积的Mo电极晶粒细小、分布均匀,有助于AIN薄膜(002)择优取向生长.
关键词:磁控溅射; Mo电极; AIN薄膜; 择优取向; Sputtering; Mo electrode; AIN thin film; orientation;
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