p-Si（100）衬底上反应磁控溅射制备HfO₂薄膜的工艺和性能研究

来源期刊：功能材料与器件学报2019年第2期

论文作者：李霞 姚建可 邓伟 肖祥 贺鑫 张盛东

文章页码：99 - 106

关键词：反应磁控溅射;HfO2;薄膜;工艺;性能;

摘    要：我们采用反应磁控溅射的方法在p-Si（100）衬底上制备了Hf O₂薄膜。我们对制备的工艺进行了摸索。设计了不同的实验条件。分别在不同的工艺条件下制备得到Hf O₂薄膜。在不同氧分压条件下制备了一组Hf O₂薄膜,在不同的溅射功率条件下制备了一组Hf O₂薄膜,在不同的溅射时间条件下制备了一组Hf O₂薄膜,不同的衬底温度下制备了一组Hf O₂薄膜。最后,将不同条件下制备的Hf O₂薄膜在不同温度下退火,并对这些样品进行了性能的测试和表征。根据测试结果分析了其性能,制备的Hf O₂薄膜是高质量的。