纳米压印光刻中抗蚀剂膜厚控制研究

严乐¹，李寒松²，刘红忠³，卢秉恒³

1. 北京信息科技大学机电工程学院2. 南京航空航天大学机电学院3. 西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室

摘 要：研究了纳米压印光刻匀胶工艺中抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速、匀胶时间和滴胶量之间的关系。实验研究表明,抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速和匀胶时间均呈幂指数关系;当匀胶转速达到一定值,匀胶时间足够大时,膜厚不再随匀胶时间变化而变化,存在最小厚度,即抗蚀剂膜厚与滴胶量无关。建立了抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速和匀胶时间之间的量化关系公式,实现了对抗蚀剂膜厚的控制。

关键词：纳米压印光刻;抗蚀剂;匀胶;膜厚控制;