简介概要

铝诱导非晶硅薄膜低温晶化及结构研究

来源期刊:功能材料2001年第4期

论文作者:王长安 曾祥斌 周雪梅 赵伯芳 饶瑞 徐重阳

关键词:金属诱导; 非晶硅薄膜; 低温晶化; 多晶硅薄膜;

摘    要:介绍了一种非晶硅薄膜低温晶化的新工艺--金属诱导非晶硅薄膜低温晶化.在非晶硅膜上蒸镀金属铝薄膜,而后于氮气保护中退火,实现了非晶硅薄膜的低温(<600℃)晶化.利用X射线衍射、光学显微镜及透射电镜等测试方法,研究了不同退火工艺对非晶硅薄膜低温晶化的影响,确定了所制备的是多晶硅薄膜.

详情信息展示

铝诱导非晶硅薄膜低温晶化及结构研究

王长安1,曾祥斌1,周雪梅1,赵伯芳1,饶瑞1,徐重阳1

(1.华中理工大学电子科学与技术系,)

摘要:介绍了一种非晶硅薄膜低温晶化的新工艺--金属诱导非晶硅薄膜低温晶化.在非晶硅膜上蒸镀金属铝薄膜,而后于氮气保护中退火,实现了非晶硅薄膜的低温(<600℃)晶化.利用X射线衍射、光学显微镜及透射电镜等测试方法,研究了不同退火工艺对非晶硅薄膜低温晶化的影响,确定了所制备的是多晶硅薄膜.

关键词:金属诱导; 非晶硅薄膜; 低温晶化; 多晶硅薄膜;

【全文内容正在添加中】

<上一页 1 下一页 >

有色金属在线官网  |   会议  |   在线投稿  |   购买纸书  |   科技图书馆

中南大学出版社 技术支持 版权声明   电话:0731-88830515 88830516   传真:0731-88710482   Email:administrator@cnnmol.com

互联网出版许可证:(署)网出证(京)字第342号   京ICP备17050991号-6      京公网安备11010802042557号