简介概要

氮氧化硅薄膜的研究进展

来源期刊：材料导报2009年第21期

论文作者：徐彩虹罗永明张宗波

关键词：氮氧化硅; 薄膜材料; 制备方法; 应用; silicon oxynitride; films materials; fabrication methods; application;

摘要：氮氧化硅薄膜材料具有优异的热力学、介电及光学性能,在微电子、光学器件等方面有着重要应用.其主要制备方法包括化学气相沉积、溅射、直接氮化/氧化及离子植入.综述了该类材料的制备方法和应用研究进展,并指出了制备方法和应用研究的发展方向.

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徐彩虹¹，罗永明¹，张宗波¹

(1.中国科学院化学研究所,北京,100190;
2.中国科学院研究生院,北京,100049)

摘要:氮氧化硅薄膜材料具有优异的热力学、介电及光学性能,在微电子、光学器件等方面有着重要应用.其主要制备方法包括化学气相沉积、溅射、直接氮化/氧化及离子植入.综述了该类材料的制备方法和应用研究进展,并指出了制备方法和应用研究的发展方向.

关键词:氮氧化硅; 薄膜材料; 制备方法; 应用; silicon oxynitride; films materials; fabrication methods; application;

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