铁刻蚀CVD金刚石膜辅助机械抛光
来源期刊：硬质合金2007年第4期
论文作者：满卫东 谢鹏 邢文娟 严朝辉 汪建华
关键词：CVD; 金刚石膜; 微波等离子体; 刻蚀; 抛光;
摘 要：采用直流溅射方法在化学气相沉积(CVD)金刚石膜表面镀上一层铁薄膜,在氢等离子体条件下利用铁对金刚石膜的快速刻蚀实现初抛光,然后再进行机械抛光,提高抛光效率.
满卫东1，谢鹏1，邢文娟1，严朝辉1，汪建华1
(1.武汉工程大学湖北省微波等离子体化学与新材料重点实验室,湖北,武汉,430073)
摘要:采用直流溅射方法在化学气相沉积(CVD)金刚石膜表面镀上一层铁薄膜,在氢等离子体条件下利用铁对金刚石膜的快速刻蚀实现初抛光,然后再进行机械抛光,提高抛光效率.
关键词:CVD; 金刚石膜; 微波等离子体; 刻蚀; 抛光;
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