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CVD金刚石膜的抛光研究进展

来源期刊：硬质合金2008年第3期

论文作者：马志斌张磊吴振辉吴利峰谭必松

关键词：CVD; 金刚石膜; 抛光;

摘要：化学气相沉积的金刚石膜表面一般比较粗糙,需要经过抛光才能实现其具体的工业应用.本文介绍了各种抛光CVD金刚石膜的方法及近来研究进展,分析了各种技术的优缺点,并结合工业应用对CVD金刚石膜的抛光前景作了展望.

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马志斌¹，张磊¹，吴振辉¹，吴利峰¹，谭必松¹

(1.武汉工程大学等离子体化学与新材料省重点实验室,湖北,武汉,430073)

摘要:化学气相沉积的金刚石膜表面一般比较粗糙,需要经过抛光才能实现其具体的工业应用.本文介绍了各种抛光CVD金刚石膜的方法及近来研究进展,分析了各种技术的优缺点,并结合工业应用对CVD金刚石膜的抛光前景作了展望.

关键词:CVD; 金刚石膜; 抛光;

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