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CVD金刚石厚膜的稀土化合物浆料刻蚀

来源期刊：功能材料与器件学报2001年第3期

论文作者：白亦真吕宪义纪红金曾孙陈宏宇王佳宇

关键词：CVD金刚石厚膜; 刻蚀; 稀土化合物浆料;

摘要：与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术，是目前研究的热点。自行研制的稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究，刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气环境中完成。其刻蚀结果，用扫描电子显微镜给出。实验表明,该工艺采用廉价的稀土化合物为原料，具有简单、安全、高效的特点。

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白亦真¹，吕宪义²，纪红³，金曾孙²，陈宏宇²，王佳宇²

(1.吉林大学超硬材料国家重点实验室 ,长春 130023;
2.吉林大学;
3.吉林大学物理系 ,)

摘要:与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术，是目前研究的热点。自行研制的稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究，刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气环境中完成。其刻蚀结果，用扫描电子显微镜给出。实验表明,该工艺采用廉价的稀土化合物为原料，具有简单、安全、高效的特点。

关键词:CVD金刚石厚膜; 刻蚀; 稀土化合物浆料;

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