稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜的刻蚀
来源期刊：无机材料学报2002年第1期
论文作者：白亦真 纪红 金曾孙 金爱子 王佳宇
关键词：CVD金刚石厚膜; 刻蚀; 稀土化合物浆料;
摘 要：CVD金刚石厚膜具有极高的硬度,使得对其进行表面抛光极为困难.传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间,而一些新的抛光技术又由于实验条件限制而难以推广.针对以上情况,我们寻求到一种新的化学刻蚀方法,即利用稀土化合物浆料对金刚石厚膜生长表面进行刻蚀,破坏表面的晶粒使之成为晶骸,降低表面的耐磨性,以提高表面粗糙的金刚石厚膜的抛光效率.
白亦真1，纪红2，金曾孙1，金爱子1，王佳宇1
(1.吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春,130023;
2.吉林大学物理系,长春,130023)
摘要:CVD金刚石厚膜具有极高的硬度,使得对其进行表面抛光极为困难.传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间,而一些新的抛光技术又由于实验条件限制而难以推广.针对以上情况,我们寻求到一种新的化学刻蚀方法,即利用稀土化合物浆料对金刚石厚膜生长表面进行刻蚀,破坏表面的晶粒使之成为晶骸,降低表面的耐磨性,以提高表面粗糙的金刚石厚膜的抛光效率.
关键词:CVD金刚石厚膜; 刻蚀; 稀土化合物浆料;
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