简介概要

ITO靶材在磁控溅射过程中的结瘤诱因分析

来源期刊：材料开发与应用2020年第1期

论文作者：崔晓芳吴晓飞郗雨林

文章页码：36 - 90

关键词：ITO靶材;结瘤诱因;磁控溅射;

摘要：研究了ITO靶材在磁控溅射过程中的结瘤问题,借助SEM对可能促使结瘤产生的因素进行了分析。结果表明,裂纹、孔隙等缺陷是结瘤产生的主要原因。

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崔晓芳，吴晓飞，郗雨林

中国船舶重工集团公司第七二五研究所

摘要：研究了ITO靶材在磁控溅射过程中的结瘤问题,借助SEM对可能促使结瘤产生的因素进行了分析。结果表明,裂纹、孔隙等缺陷是结瘤产生的主要原因。

关键词：ITO靶材;结瘤诱因;磁控溅射;