ZnO/Ga2O3膜的氨化温度对制作硅基GaN纳米材料的影响
来源期刊：稀有金属材料与工程2005年第1期
论文作者：董志华 庄惠照 薛成山 高海永
关键词：氨化; ZnO/Ga2O3薄膜; 挥发; 射频磁控溅射; Ammoniate; ZnO/Ga2O3 films; volatilization; r.f. magnetron sputtering;
摘 要：通过在不同温度下氨化ZnO/Ga2O3膜,在Si衬底上成功制备了GaN纳米结构材料.氨化前,ZnO层和Ga2O3膜分别通过射频磁控溅射法依次溅射到Si衬底上.用X射线衍射(XRD)、红外傅里叶变换光谱(FTIR)分析了GaN晶体的结构和组分,利用扫描电子显微镜(SEM)观察了样品的形貌.通过对测试结果的分析可知在Si衬底上由ZnO挥发辅助生长出六方纤锌矿GaN纳米结构晶体,并且ZnO/Ga2O3的氨化温度对形成GaN纳米材料具有明显的影响.
董志华1，庄惠照1，薛成山1，高海永1
(1.山东师范大学,山东,济南,250014)
摘要:通过在不同温度下氨化ZnO/Ga2O3膜,在Si衬底上成功制备了GaN纳米结构材料.氨化前,ZnO层和Ga2O3膜分别通过射频磁控溅射法依次溅射到Si衬底上.用X射线衍射(XRD)、红外傅里叶变换光谱(FTIR)分析了GaN晶体的结构和组分,利用扫描电子显微镜(SEM)观察了样品的形貌.通过对测试结果的分析可知在Si衬底上由ZnO挥发辅助生长出六方纤锌矿GaN纳米结构晶体,并且ZnO/Ga2O3的氨化温度对形成GaN纳米材料具有明显的影响.
关键词:氨化; ZnO/Ga2O3薄膜; 挥发; 射频磁控溅射; Ammoniate; ZnO/Ga2O3 films; volatilization; r.f. magnetron sputtering;
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