纳米复合Ti-B-N薄膜的结构和摩擦学性能
来源期刊：稀有金属材料与工程2005年第10期
论文作者：徐可为 马大衍 马胜利 刘维民
关键词：PCVD; Ti-B-N薄膜; 硬度; 耐磨性;
摘 要：研究了射频等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)技术获得的Ti-B-N薄膜的组织结构和力学性能.结果发现,B元素的加入使薄膜中出现TiN纳米晶和BN非晶(nc-TiN/a-BN)的复合结构,其硬度显著高于TiN薄膜,最高可达40 GPa.用球盘式摩擦磨损实验考察了薄膜的磨损特性.结果表明:与TiN薄膜相比,Ti-B-N薄膜抗磨损性能有显著提高,磨损机制与TiN薄膜不同,摩擦系数较TiN稍高.
徐可为1，马大衍1，马胜利1，刘维民2
(1.西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049;
2.中科院兰州化物所固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000)
摘要:研究了射频等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)技术获得的Ti-B-N薄膜的组织结构和力学性能.结果发现,B元素的加入使薄膜中出现TiN纳米晶和BN非晶(nc-TiN/a-BN)的复合结构,其硬度显著高于TiN薄膜,最高可达40 GPa.用球盘式摩擦磨损实验考察了薄膜的磨损特性.结果表明:与TiN薄膜相比,Ti-B-N薄膜抗磨损性能有显著提高,磨损机制与TiN薄膜不同,摩擦系数较TiN稍高.
关键词:PCVD; Ti-B-N薄膜; 硬度; 耐磨性;
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