等离子喷涂距离和氩气流量对MoSi_2 涂层结构的影响

吴海江¹，徐红梅¹，颜建辉¹，张厚安²，古思勇¹

(1.湖南科技大学,先进材料制备及应用技术研究所,湖南,湘潭,411201;
2.厦门理工学院,机械工程系,福建,厦门,361021)

摘要:以MoSi_2粉末为喷涂原料,采用大气等离子喷涂技术,在K403镍基合金表面制备了二硅化钼涂层,考察了不同喷涂距离和氩气流量对MoSi_2涂层的相组成和微观组织的影响.结果表明,随喷涂距离的增加,涂层的相组成由富硅相向富钼相演变;氩气流量的增大可减少涂层中的富钼相,但若流量过大,则会降低涂层的致密性;采用喷涂功率为30 kW、喷涂距离为100 mm和氩气流量为50 L/min的喷涂工艺可制备出以MoSi_2为主相且致密性较高的涂层,明显提高了基体的高温抗氧化性.

关键词:二硅化钼涂层; 等离子喷涂; 镍基合金; 微观结构; MoSi_2 coating; plasma spray; nickel-base alloy; microstructure;

【全文内容正在添加中】