镶嵌结构界面金刚石成膜机制的研究
来源期刊：稀有金属材料与工程2014年第12期
论文作者：陈星婷 邱万奇 刘仲武 匡同春 曾德长 周克崧
文章页码：3100 - 3103
关键词：金刚石膜;镶嵌;成膜机制;二次形核;
摘 要：在铜基体复合电沉积金刚石-铜过渡层,用热丝CVD法对铜基镶嵌结构界面金刚石膜的初期生长过程进行了研究。结果表明:不规则的露头金刚石在CVD生长初期逐渐转化为规则的刻面金刚石,长大速率呈现先增加后降低的趋势,伴随着刻面的形成,在露头金刚石与电镀铜二面角处开始二次形核,二次晶粒与电镀铜形成新的二面角并促进二次形核,如此繁衍长大的结果是二次晶粒填充在露头金刚石颗粒沟槽之间,形成连续的金刚石膜。
陈星婷1，邱万奇1，刘仲武1，匡同春1，曾德长1，周克崧1,2
1. 华南理工大学2. 广州有色金属研究院
摘 要：在铜基体复合电沉积金刚石-铜过渡层,用热丝CVD法对铜基镶嵌结构界面金刚石膜的初期生长过程进行了研究。结果表明:不规则的露头金刚石在CVD生长初期逐渐转化为规则的刻面金刚石,长大速率呈现先增加后降低的趋势,伴随着刻面的形成,在露头金刚石与电镀铜二面角处开始二次形核,二次晶粒与电镀铜形成新的二面角并促进二次形核,如此繁衍长大的结果是二次晶粒填充在露头金刚石颗粒沟槽之间,形成连续的金刚石膜。
关键词：金刚石膜;镶嵌;成膜机制;二次形核;
