气体循环条件下等离子体喷射CVD金刚石膜的生长稳定性和品质

来源期刊：工程科学学报2007年第11期

论文作者：牛得草 李成明 刘政 郭世斌 吕反修

文章页码：1133 - 1137

关键词：CVD金刚石膜;气体循环;直流电弧等离子喷射;生长稳定性;残余应力;

摘    要：在气体循环条件下采用H2、CH4和Ar的混合气体,利用100kW直流电弧等离子喷射CVD系统,在850和950℃下在Mo衬底上沉积了不同厚度的金刚石膜;并利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和Raman光谱对膜的形貌、品质、取向和残余应力进行了分析.结果表明:在850℃下,随着金刚石膜厚度的增加,膜的品质不断提高,残余应力逐渐减小,且残余应力为拉应力,膜的生长稳定性很好;在反应气体流速不变的条件下,相比950℃沉积的厚度为120μm的金刚石膜,在850℃下沉积的厚度为110μm的金刚石膜有更好的生长稳定性,膜的品质更高,残余应力更小.