金刚石膜中黑色缺陷形成过程的计算机模拟
来源期刊：功能材料2010年第3期
论文作者：吕反修 姜春生 李晓静 刘政 唐伟忠
关键词：金刚石膜; 黑色缺陷; 水平集方法; 生长参数; diamond film; dark feature; level-set method; growth parameter;
摘 要：多晶金刚石膜中的黑色缺陷是影响材料光学、电学性能的一种重要缺陷.利用水平集方法对黑色缺陷的形成过程进行了模拟.模拟的基本假设为:黑色缺陷形成的基本条件为相邻晶粒间的晶界环境使活性气体扩散的过程难以进行,形成了一种形如"峡谷"状的、相邻晶面夹角＜30°的局部环境.金刚石膜的生长参数α2d值由1.3改变为1.5,在其晶粒表面{11}面上形成孪晶.孪晶的长大促进了黑色缺陷的形成.
吕反修1，姜春生1，李晓静1，刘政1，唐伟忠1
(1.北京科技大学,材料学院,北京,100083)
摘要:多晶金刚石膜中的黑色缺陷是影响材料光学、电学性能的一种重要缺陷.利用水平集方法对黑色缺陷的形成过程进行了模拟.模拟的基本假设为:黑色缺陷形成的基本条件为相邻晶粒间的晶界环境使活性气体扩散的过程难以进行,形成了一种形如"峡谷"状的、相邻晶面夹角＜30°的局部环境.金刚石膜的生长参数α2d值由1.3改变为1.5,在其晶粒表面{11}面上形成孪晶.孪晶的长大促进了黑色缺陷的形成.
关键词:金刚石膜; 黑色缺陷; 水平集方法; 生长参数; diamond film; dark feature; level-set method; growth parameter;
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