衬底温度对磁控溅射法制备ZnO薄膜结构及光学特性的影响

徐小丽¹，马书懿¹，魏晋军¹，陈彦¹，张国恒¹，孙小菁¹

(1.西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070)

摘要:采用射频反应磁控溅射法在玻璃衬底上制备了具有c轴高择优取向的ZnO薄膜,利用X射线衍射仪、扫描探针显微镜及紫外分光光度计研究了生长温度对ZnO薄膜的结构及光学吸收和透射特性的影响.结果表明,合适的衬底温度有利于提高ZnO薄膜的结晶质量;薄膜在紫外区显示出较强的光吸收,在可见光区的平均透过率达到90%以上,且随着衬底温度的升高,薄膜的光学带隙减小、吸收边红移.采用量子限域模型对薄膜的光学带隙作了相应的理论计算,计算结果与实验值符合得较好.

关键词:射频磁控溅射; ZnO薄膜; X射线衍射; 光学特性; 量子限域;

【全文内容正在添加中】