溅射工艺参数对MgF2薄膜光学性质的影响
来源期刊：矿冶2017年第5期
论文作者：张育潜 傅莉
文章页码：65 - 68
关键词：MgF2薄膜;溅射功率;氩气流量;光学性质;
摘 要：采用射频磁控溅射工艺,在紫外熔融石英衬底上制备了MgF2薄膜。通过改变溅射功率和氩气流量,研究了主要溅射工艺参数对薄膜结构和光学性质的影响规律。试验结果表明,选择合适的溅射功率和氩气流量可以提高MgF2薄膜的光学性质,有利于MgF2薄膜在紫外波段的应用。
张育潜，傅莉
西北工业大学材料学院
摘 要：采用射频磁控溅射工艺,在紫外熔融石英衬底上制备了MgF2薄膜。通过改变溅射功率和氩气流量,研究了主要溅射工艺参数对薄膜结构和光学性质的影响规律。试验结果表明,选择合适的溅射功率和氩气流量可以提高MgF2薄膜的光学性质,有利于MgF2薄膜在紫外波段的应用。
关键词：MgF2薄膜;溅射功率;氩气流量;光学性质;
