直流磁控溅射功率对溅射生长GZO薄膜光电性能的影响
来源期刊：材料科学与工程学报2017年第5期
论文作者：姚婷婷 杨勇 李刚 仲召进 张宽翔 蒋继文 金克武 曹欣 吴可凡 王芸 马立云 彭寿
文章页码：747 - 1565
关键词：GZO薄膜;溅射功率;电学性能;光学性能;
摘 要：本文采用直流磁控溅射沉积系统在玻璃基底上沉积镓掺杂氧化锌（GZO）薄膜,将溅射功率从120W调整到240W,步长为30W,研究功率变化对GZO薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性能和电学性能的影响。结果表明,溅射功率对GZO薄膜电阻率有显著的影响。溅射功率为210W时薄膜呈现最低电阻率为3.31×10-4Ω·cm,可见光波段平均光学透光率接近84%。随着溅射功率的增加,薄膜表面形貌和生长形态发生较大变化,并直接得到具有一定凸凹不平的微结构,GZO薄膜的致密性先增加后降低。
姚婷婷1，杨勇1，李刚1，仲召进1,2，张宽翔1，蒋继文1，金克武1，曹欣1,2，吴可凡3，王芸1，马立云1，彭寿1
1. 蚌埠玻璃工业设计研究院浮法玻璃新技术国家重点实验室2. 大连交通大学3. 蚌埠市第二中学
摘 要：本文采用直流磁控溅射沉积系统在玻璃基底上沉积镓掺杂氧化锌（GZO）薄膜,将溅射功率从120W调整到240W,步长为30W,研究功率变化对GZO薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性能和电学性能的影响。结果表明,溅射功率对GZO薄膜电阻率有显著的影响。溅射功率为210W时薄膜呈现最低电阻率为3.31×10-4Ω·cm,可见光波段平均光学透光率接近84%。随着溅射功率的增加,薄膜表面形貌和生长形态发生较大变化,并直接得到具有一定凸凹不平的微结构,GZO薄膜的致密性先增加后降低。
关键词：GZO薄膜;溅射功率;电学性能;光学性能;
