HWCVD在玻璃衬底上沉积硅薄膜的研究
来源期刊：材料导报2010年第S1期
论文作者：张俊丽 傅杰财 郭小松 刘滨 谢二庆
文章页码：288 - 290
关键词：热丝化学气相沉积;硅薄膜;硅烷浓度;衬底与热丝距离;衬底温度;
摘 要：采用热丝化学气相沉积法在玻璃衬底上沉积硅薄膜,采用扫描电子显微镜、拉曼光谱分析表征样品的形貌和结晶性,较为系统地研究了硅烷浓度、衬底到热丝的距离对硅薄膜生长过程及各种性质的影响,结果表明,较高的衬底温度及较低的硅烷浓度有利于薄膜的结晶。
张俊丽，傅杰财，郭小松，刘滨，谢二庆
兰州大学物理科学与技术学院
摘 要：采用热丝化学气相沉积法在玻璃衬底上沉积硅薄膜,采用扫描电子显微镜、拉曼光谱分析表征样品的形貌和结晶性,较为系统地研究了硅烷浓度、衬底到热丝的距离对硅薄膜生长过程及各种性质的影响,结果表明,较高的衬底温度及较低的硅烷浓度有利于薄膜的结晶。
关键词：热丝化学气相沉积;硅薄膜;硅烷浓度;衬底与热丝距离;衬底温度;
