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Ni-W-SiC纳米复合电镀工艺的研究

来源期刊:材料工程2006年第3期

论文作者:王晋春 程旭东 李丹虹 杨章富 欧阳贵

关键词:纳米复合电镀; 共析量; 表面形貌; 显微硬度;

摘    要:采用一种新型的分散方法促使纳米SiC在镀液中的均匀有效分布.初步探讨了工艺参数对复合镀层的影响,着重研究阴极电流密度对Ni-W-SiC纳米复合镀层表面形貌、断面形貌、n-SiC共析量和显微硬度的影响.结果表明:在其他工艺不变的条件下,选择适当的电流密度可制备出形貌良好、成分均匀、硬度较高的纳米复合镀层.

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Ni-W-SiC纳米复合电镀工艺的研究

王晋春1,程旭东1,李丹虹1,杨章富1,欧阳贵2

(1.武汉理工大学,材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070;
2.武汉材料保护研究所,武汉,430030)

摘要:采用一种新型的分散方法促使纳米SiC在镀液中的均匀有效分布.初步探讨了工艺参数对复合镀层的影响,着重研究阴极电流密度对Ni-W-SiC纳米复合镀层表面形貌、断面形貌、n-SiC共析量和显微硬度的影响.结果表明:在其他工艺不变的条件下,选择适当的电流密度可制备出形貌良好、成分均匀、硬度较高的纳米复合镀层.

关键词:纳米复合电镀; 共析量; 表面形貌; 显微硬度;

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