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金属镍-碳化硅纳米复合电镀工艺研究

来源期刊:兵器材料科学与工程2007年第4期

论文作者:刘大成 罗胜铁 张艳丽

关键词:纳米复合电镀; 镍-纳米碳化硅; 显微硬度;

摘    要:采用复合电镀技术在炭素结构钢板的表面上制备高硬度的Ni-SiC纳米复合镀层,研究镍-碳化硅纳米复合电镀的工艺条件.结果表明,当阴极电流密度为2.56 A/dm2,镀液中纳米碳化硅粉的质量浓度为20 g/L,镀液的pH值为5.0,温度为50 ℃时,镀层生长良好,均匀细致平滑,镀层的显微硬度可达到950HV0.2,远高于普通纯镍镀层的硬度.

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金属镍-碳化硅纳米复合电镀工艺研究

刘大成1,罗胜铁1,张艳丽1

(1.唐山学院,环境与化学工程系,河北,唐山,063000)

摘要:采用复合电镀技术在炭素结构钢板的表面上制备高硬度的Ni-SiC纳米复合镀层,研究镍-碳化硅纳米复合电镀的工艺条件.结果表明,当阴极电流密度为2.56 A/dm2,镀液中纳米碳化硅粉的质量浓度为20 g/L,镀液的pH值为5.0,温度为50 ℃时,镀层生长良好,均匀细致平滑,镀层的显微硬度可达到950HV0.2,远高于普通纯镍镀层的硬度.

关键词:纳米复合电镀; 镍-纳米碳化硅; 显微硬度;

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