图案化金属铜纳米线阵列的制备与表征
来源期刊：功能材料2009年第12期
论文作者：李晓茹 佘希林 李培栋 孙瑾 彭智 宋国君 李建江
关键词：紫外光刻法; AAO模板; 图案; 纳米线阵列; 电沉积; photolithographic method; AAO template; pattern; nanowire arrays; electrodeposition;
摘 要：采用紫外线光刻技术与电化学沉积相结合的方法,成功制备了不同图案的铜纳米线阵列:一种是圆形图案;另一种是QDU图案.首先利用紫外线光刻技术在多孔阳极氧化铝模板(AAO)生成预设图案,以此作为"二次模板";再利用电化学方法将铜纳米线沉积到"二次模板"的开孔中.扫描电镜(SEM)测试结果表明,大面积、高规整的铜纳米线图案阵列各自独立地立在基底上, 同时,用电子能谱(EDS)分析了铜纳米线的化学成分.透射电镜(TEM)也探测到了铜纳米线的微结构.
李晓茹1，佘希林1，李培栋1，孙瑾1，彭智1，宋国君1，李建江1
(1.青岛大学,化学化工与环境学院,山东,青岛,266071)
摘要:采用紫外线光刻技术与电化学沉积相结合的方法,成功制备了不同图案的铜纳米线阵列:一种是圆形图案;另一种是QDU图案.首先利用紫外线光刻技术在多孔阳极氧化铝模板(AAO)生成预设图案,以此作为"二次模板";再利用电化学方法将铜纳米线沉积到"二次模板"的开孔中.扫描电镜(SEM)测试结果表明,大面积、高规整的铜纳米线图案阵列各自独立地立在基底上, 同时,用电子能谱(EDS)分析了铜纳米线的化学成分.透射电镜(TEM)也探测到了铜纳米线的微结构.
关键词:紫外光刻法; AAO模板; 图案; 纳米线阵列; 电沉积; photolithographic method; AAO template; pattern; nanowire arrays; electrodeposition;
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