紫外光刻法制备图案化聚合物纳米管/线阵列的研究
来源期刊:功能材料2010年第8期
论文作者:李培栋 李晓茹 宋国君 彭智 佘希林 李建江 孙瑾
文章页码:1350 - 1352
关键词:紫外光刻技术;纳米管;纳米线;AAO模板;图案化;
摘 要:探讨了紫外光刻技术制备图案化聚合物纳米管/线阵列的方法,研究制备过程中的各种影响因素,并找到了最佳的实验条件。采用溶液浸润法,成功制备了不同图案的聚合物纳米结构阵列。溶液浓度为6%(质量分数),得到的是聚合物纳米管阵列;溶液浓度为10.0%(质量分数),得到的是聚合物纳米线阵列。
李培栋,李晓茹,宋国君,彭智,佘希林,李建江,孙瑾
青岛大学化学化工与环境学院
摘 要:探讨了紫外光刻技术制备图案化聚合物纳米管/线阵列的方法,研究制备过程中的各种影响因素,并找到了最佳的实验条件。采用溶液浸润法,成功制备了不同图案的聚合物纳米结构阵列。溶液浓度为6%(质量分数),得到的是聚合物纳米管阵列;溶液浓度为10.0%(质量分数),得到的是聚合物纳米线阵列。
关键词:紫外光刻技术;纳米管;纳米线;AAO模板;图案化;