硅衬底上高增透金刚石膜的制备研究
来源期刊：功能材料2009年第12期
论文作者：徐峰 左敦稳 王鸿翔 卢文壮
关键词：HFCVD; 金刚石膜; 增透; HFCVD; diamond film; Anti-reflective;
摘 要：采用甲烷和氢气作为工作气体,在热丝化学气相沉积(HFCVD)设备上采用五段式沉积法制备了金刚石薄膜,用扫描电子显微镜(SEM)、激光拉曼光谱仪、X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及傅立叶红外光谱仪研究了金刚石膜的结构和性质.结果表明,采用五段式沉积法可以得到晶粒大小达到纳米级的、表面粗糙度较小、金刚石纯度较高的金刚石膜,其最大增透率超过70%,能满足作为光学窗口增透膜的应用要求.
徐峰1，左敦稳1，王鸿翔1，卢文壮1
(1.南京航空航天大学,机电学院,江苏,南京,210016;
2.淮安信息职业技术学院,机电工程系,江苏,淮安,223003)
摘要:采用甲烷和氢气作为工作气体,在热丝化学气相沉积(HFCVD)设备上采用五段式沉积法制备了金刚石薄膜,用扫描电子显微镜(SEM)、激光拉曼光谱仪、X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及傅立叶红外光谱仪研究了金刚石膜的结构和性质.结果表明,采用五段式沉积法可以得到晶粒大小达到纳米级的、表面粗糙度较小、金刚石纯度较高的金刚石膜,其最大增透率超过70%,能满足作为光学窗口增透膜的应用要求.
关键词:HFCVD; 金刚石膜; 增透; HFCVD; diamond film; Anti-reflective;
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