CMP抛光液添加剂在磨料粒子上的表面吸收
来源期刊：功能材料与器件学报2013年第4期
论文作者：Mansour Moinpour Ashley Wayman Ashwani Rawat Colin T.Carver Edward E.Remsen
文章页码：186 - 189
摘 要：荧光相关光谱（FCS）用于研究化学机械平坦化研磨液中添加剂-磨料粒子间的相互作用。通过添加剂和荧光探针分子,Alexa fluor 546（A546）在二氧化硅磨料粒子表面的竞争性吸附作用性质的描述,FCS提供了添加剂和磨料粒子间粘合的数量测定。胶态二氧化硅上吸附苯并三唑（BTA）的分析确认,A546被附加的BTA取代。但是,乙氨酸增强了胶态二氧化硅对A546的吸附。也证明了FCS是检测CMP工艺中使用的不同类型胶态二氧化硅磨料粒子间表面化学成分差异的灵敏技术。
Mansour Moinpour1，Ashley Wayman2，Ashwani Rawat1，Colin T.Carver3，Edward E.Remsen2
1. Intel Corporation,Fab Materials Operation2. Bradley University3. Intel Corporation,Components Research
摘 要：荧光相关光谱（FCS）用于研究化学机械平坦化研磨液中添加剂-磨料粒子间的相互作用。通过添加剂和荧光探针分子,Alexa fluor 546（A546）在二氧化硅磨料粒子表面的竞争性吸附作用性质的描述,FCS提供了添加剂和磨料粒子间粘合的数量测定。胶态二氧化硅上吸附苯并三唑（BTA）的分析确认,A546被附加的BTA取代。但是,乙氨酸增强了胶态二氧化硅对A546的吸附。也证明了FCS是检测CMP工艺中使用的不同类型胶态二氧化硅磨料粒子间表面化学成分差异的灵敏技术。
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