固结磨料抛光LBO晶体非水基抛光液优化
来源期刊:功能材料2016年第2期
论文作者:宋龙龙 李军 王文泽 胡章贵 朱永伟 左敦稳
文章页码:2051 - 2054
关键词:固结磨料抛光;非水基抛光液;材料去除率;表面粗糙度;
摘 要:三硼酸锂(LBO)晶体是优良的非线性光学晶体材料,抛光后晶体表面水份残留导致晶体潮解,影响器件的使用性能。采用非水基抛光液固结磨料抛光LBO晶体,降低水含量,研究非水基抛光液中去离子水、乳酸、双氧水等含量对材料去除率和表面粗糙度的影响,并综合优化得到高材料去除率和优表面质量的抛光液组分。研究表明,抛光液中去离子水浓度16%、乳酸22%、双氧水5%为最优抛光液组分,采用优化的抛光液固结磨料抛光LBO晶体的材料去除率达到392nm/min,表面粗糙度为0.62nm,实现了LBO晶体表面的高效高质量抛光,同时避免了抛光过程中水的大量使用。
宋龙龙1,李军1,王文泽1,胡章贵2,朱永伟1,左敦稳1
1. 南京航空航天大学机电学院2. 中国科学院理化技术研究所功能晶体与激光技术重点实验室
摘 要:三硼酸锂(LBO)晶体是优良的非线性光学晶体材料,抛光后晶体表面水份残留导致晶体潮解,影响器件的使用性能。采用非水基抛光液固结磨料抛光LBO晶体,降低水含量,研究非水基抛光液中去离子水、乳酸、双氧水等含量对材料去除率和表面粗糙度的影响,并综合优化得到高材料去除率和优表面质量的抛光液组分。研究表明,抛光液中去离子水浓度16%、乳酸22%、双氧水5%为最优抛光液组分,采用优化的抛光液固结磨料抛光LBO晶体的材料去除率达到392nm/min,表面粗糙度为0.62nm,实现了LBO晶体表面的高效高质量抛光,同时避免了抛光过程中水的大量使用。
关键词:固结磨料抛光;非水基抛光液;材料去除率;表面粗糙度;